Le HEX-Mini est le système PVD (dépôt physique en phase vapeur) d’entrée de gamme et compact développé par Korvus Technology pour la fabrication de couches minces. Il est particulièrement adapté aux applications telles que les revêtements optiques, la préparation d’échantillons pour SEM/TEM, ou encore la réalisation de contacts électriques.
Véritable système de dépôt « plug and play », le HEX-Mini s’installe rapidement et permet aux chercheurs en science des matériaux, en physique ou en microscopie de produire des revêtements de haute qualité dans un format compact, intuitif et sans compromis sur les performances.
Le modèle benchtop HEX-Mini peut être configuré avec une source de pulvérisation cathodique DC (courant continu) de 2" ou une source d'évaporation thermique. Le choix de la méthode de dépôt dépendra des matériaux à traiter, du rendement souhaité, de l’uniformité recherchée ou encore de la sensibilité des échantillons.
2 modèles disponibles : Mini S et Mini T.
La seule différence entre les deux modèles réside dans la source : l’un est équipé d’une source magnétron DC, l’autre d’une source d’évaporation thermique.
Dans tous les autres aspects, ils sont strictement identiques.
Mini S / T
Système de pulvérisation cathodique DC ou Évaporateur thermique avec pompage turbomoléculaire.
Taille maximale de l’échantillon (diamètre) : 2" (50 mm)
Source : Pulvérisation cathodique / DC Évaporateur thermique TES
Taille de la cathode magnétron (diamètre) : 2"
Alimentation électrique : 208 W, 650 V - 0,32 A / 720 W, 72 A - 10 V
Pression de base : <5×10⁻⁶ mbar
Volume de la chambre : 0,8 L